Método para la determinación de la difusividad térmica en el rango de espesores nanométricos
Con el significativo progreso en el diseño de dispositivos electrónicos y la necesidad asociada de una gestión térmica eficiente, las mediciones precisas de difusividad térmica / conductividad térmica en el rango nanométrico son más que nunca cruciales.
El Instituto Nacional de Ciencia y Tecnología Industrial Avanzada (AIST) de Japón ya respondió a las necesidades de la industria con el desarrollo de un "método de termorreflexión por calentamiento con luz pulsada" a principios de la década de 1990. PicoTherm Corporation se fundó en 2008 con el lanzamiento de un aparato de termorreflexión de nanosegundos "NanoTR" y un aparato de termorreflexión de pico-segundos "PicoTR", que permite realizar mediciones absolutas de la difusividad térmica de películas finas en un rango de grosor de varios 10 μm hasta el rango nanométrico.
En octubre de 2020, PicoTherm se unió al grupo NETZSCH como filial de NETZSCH Japan. En combinación con nuestros sistemas LFA, NETZSCH puede ofrecer ahora la solución para películas finas en el rango nanométrico hasta materiales a granel en el rango de mm.
Con los importantes avances en el diseño de dispositivos electrónicos y la necesidad asociada de una gestión térmica eficiente, las mediciones precisas de la difusividad térmica / conductividad térmica en el rango nanométrico son más cruciales que nunca.