Fuente de rayos X

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Descripción

En el corazón de la calidad de imagen superior de los sistemas de rayos X y TC de Nikon se encuentran fuentes de rayos X líderes en el mundo diseñadas y fabricadas internamente desde 1986. Rotating.Target 2.0 único de 225 kV Rotating.Target 2.0 permite una operación continua de hasta 450 W con una resolución hasta tres veces mayor para la misma potencia, o recolección de datos tres veces más rápida para una resolución específica. Fuente exclusiva de microfoco de 450 kV La fuente microfoco de rayos X de 450 kV/450 W de Nikon es la única en el mundo que ofrece alta energía combinada con un tamaño de punto focal de alta resolución de 80 µm, lo que permite la inspección de componentes densos. Fuente de rayos X superior La fuente microfoco de rayos X, Xi Nanotech de Nikon, líder en el mercado, es única debido a su exclusivo diseño de generador integral y una energía máxima de 160 kV sin precedentes y una potencia de objetivo real de 20 W.

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* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.