Sistema de fotolitografía láser PhableR 100

El sistema PhableR 100 se basa en la tecnología fotolitográfica PHABLE (abreviatura de Photonics Enabler) desarrollada por Eulitha AG, que permite imprimir estructuras periódicas de alta resolución en un sistema de fotolitografía de proximidad sin contacto. La resolución obtenida con el PhableR 100 es esencialmente la misma que la de un sistema de litografía de proyección DUV, pero sin la compleja y costosa óptica y mecánica. Por ejemplo, con el nuevo sistema pueden imprimirse con gran uniformidad rejillas lineales con un paso medio de 150 nm. Como ventaja añadida, la profundidad de enfoque prácticamente ilimitada de la imagen formada por el sistema PhableR 100 significa que los patrones de alta resolución pueden imprimirse con gran uniformidad incluso en sustratos no planos, que son los que suelen encontrarse en las aplicaciones fotónicas. El sistema PhableR 100 puede exponer sustratos con diámetros de hasta 100 mm utilizando las máscaras estándar de cromo sobre vidrio o de cambio de fase. La máscara y el sustrato se cargan manualmente en el sistema y el proceso de exposición se controla mediante un ordenador de a bordo. Se pueden utilizar fotorresistencias i-line estándar, tanto de tono positivo como negativo, que están disponibles en los proveedores habituales. Pueden imprimirse rejillas lineales o curvas, patrones de tipo cristal fotónico 2D con simetría hexagonal o cuadrada con periodos de característica inferiores a 300 nm. El sistema también puede utilizarse como un alineador de máscaras estándar, ya sea en modo de proximidad o de contacto, para imprimir estructuras a escala micrométrica.