Aparato de medición del ángulo de contacto SURFTENS HL

de procesopara la industria de los semiconductores

HL de SURFTENS - oblea profesional que prueba en tecnología de semiconductor El metro SURFTENSHL del ángulo de contacto se diseña para el uso en industria y la investigación del semiconductor, particularmente para el control de proceso de la capa de la oblea y en el proceso fotolitográfico. Es caracterizado por las características siguientes: medida rápida y fácil del ángulo de contacto, construcción del ahorro de espacio construcción especial de la tabla para el trazado rápido de la distribución del ángulo de contacto en la oblea software con la operación intuitiva documentación cómoda de los resultados de medición en protocolos y en las imágenes de vídeo, si procede cómputo de la energía superficial libre por la teoría de Wu/del TRABAJO uso opcional con el ordenador portátil o la PC HL de SURFTENS - usos La modificación del comportamiento de mojado de las obleas de silicio es un paso de proceso estándar en la tecnología de semiconductor. Para la caracterización de proceso, ajuste de parámetros y del control de producción tecnológicos. Es por lo tanto absolutamente necesario, medir el ángulo de contacto y la energía libre superficial objetivo y exactamente antes y después del proceso de la modificación. Con este fin un instrumento de medida robusto y fácil de utilizar del ángulo de contacto es necesario. SURFTENSHL fue desarrollado para cubrir las necesidades en tecnología de semiconductor y la investigación la operación es simple y para todos posible después de un entrenamiento corto. La operación manual asegura un precio atractivo. SURFTENSHL se utiliza así así como en control de proceso estándar así como en la investigación y desarrollo.