Sistema de litografía para la industria de los semiconductores JetStep® G45

El sistema JetStep G45 responde a los exigentes requisitos del sector de las pantallas móviles. Basado en la tecnología de pasos establecida, el sistema combina capacidades de rendimiento optimizadas con un coste de propiedad superior. Descripción del producto El sistema JetStep G45 cuenta con 200 mm. La óptica de baja distorsión combinada con los movimientos de precisión de alta velocidad permite que el sistema logre una superposición de <0,5μm. La óptica de aumento del sistema JetStep G45 permite el uso de una retícula (máscara) de 6 pulgadas, lo que reduce significativamente el coste de las herramientas en comparación con las tecnologías de la competencia. Además, el sistema ocupa poco espacio, minimiza el coste de las instalaciones y sus movimientos sin fricción reducen el desgaste, lo que disminuye los costes de mantenimiento. El ahorro combinado se traduce en un proceso de fabricación asequible con un CAPEX reducido y un bajo coste de propiedad (COO). Especificaciones - Lente de proyección y sistema de iluminación de alta fidelidad para una resolución de hasta 1,5 µm - Formato de retícula de 6 pulgadas estándar del sector para una fabricación rentable - Control de aumento automatizado que aumenta la ventana de proceso - Sistema de gestión de retículas integrado para proporcionar la máxima utilización - Paquete de metrología integrado para la calibración in situ - Enfoque automático sobre la marcha en cada lugar de exposición para ajustar automáticamente el enfoque sobre la topología del panel - Diagnóstico integrado que proporciona información sobre el rendimiento del sistema y la resolución de problemas