Sistema de metrología para obleas IMPULSE V

para semiconductores

Plataforma de metrología integrada con soluciones ópticas y de aprendizaje automático líderes en el sector, que combina una alta sensibilidad con un alto rendimiento para aplicaciones de CMP, deposición, grabado y litografía. Descripción del producto Sistema IMPULSE V Con unas tolerancias de uniformidad más estrictas entre obleas y dentro de las mismas, los sistemas de metrología integrados se utilizan en varias etapas de procesamiento de semiconductores. Basado en la tecnología óptica de alta resolución demostrada, el sistema IMPULSE V proporciona una mayor sensibilidad en las mediciones de residuos de película fina durante el proceso CMP. La plataforma IMPULSE cuenta con el hardware más fiable del sector, con las mejores métricas de fiabilidad y productividad. Esta nueva generación del sistema IMPULSE V amplía esta fiabilidad con un rendimiento significativamente mayor, manteniéndose en sintonía con la necesidad de un mayor muestreo, mediciones en el troquel/en el dispositivo y en el borde de la oblea. La óptica avanzada y la cámara de medición específicamente diseñada ofrecen una mejora significativa en la relación señal/ruido (SNR), consiguiendo una mejora de la precisión de >2 veces con respecto a la generación anterior de metrología integrada. El aprendizaje automático integrado utiliza la SNR adicional para completar este potente paquete, lo que permite acelerar el tiempo de resolución y cerrar la brecha en las capas que antes no se podían medir con el conjunto de herramientas existente. El sistema IMPULSE V y el sistema Atlas V constituyen una solución integral de medición de dimensiones críticas de películas finas y ópticas para las fábricas de semiconductores, lo que permite aumentar el rendimiento mediante la transmisión de información con un intercambio perfecto de recetas y datos.