Plataforma de metrología integrada con soluciones ópticas y de aprendizaje automático líderes en el sector, que combina una alta sensibilidad con un alto rendimiento para aplicaciones de CMP, deposición, grabado y litografía.
El sistema IMPULSE+, un estándar de metrología integrada, ofrece la máxima sensibilidad y precisión a las desviaciones del proceso CMP y permite a los fabricantes de dispositivos establecer soluciones de control APC con retroalimentación de alta precisión. Con el software de la solución OCD, que permite realizar mediciones directas en el interior del dispositivo y en las zonas activas, los usuarios pueden supervisar las pequeñas desviaciones del proceso y optimizar sus procesos para obtener mayores rendimientos.
El sistema IMPULSE+ funciona conjuntamente con las soluciones de análisis de software Atlas y OCD, lo que permite optimizar los procesos entre módulos y realizar un control exhaustivo de los procesos en toda la fábrica. El sistema IMPULSE+ ha sido ampliamente adoptado en las etapas clave de la fabricación de dispositivos DRAM, 3D-NAND, sensores de imagen CMOS y fundición/lógica.
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