Sistema de metrología para semiconductores Aspect®

El nuevo sistema de metrología Aspect es una revolucionaria plataforma óptica diseñada para los retos actuales y futuros de los dispositivos NAND 3D avanzados. Descripción del producto La densidad de la memoria aumenta con el escalado de pares de capas y el apilamiento de niveles para pilas de memoria de más de 200 pares. El sistema de metrología Aspect se ha diseñado teniendo en cuenta estas futuras arquitecturas y estrategias de escalado. La metrología de Aspect está demostrando un rendimiento superior al de los sistemas de rayos X en múltiples dispositivos de clientes gracias a un revolucionario sistema óptico de infrarrojos que proporciona una capacidad de perfilado completa para permitir un control crítico del grabado y la deposición, con la velocidad y la cobertura del proceso que los clientes requieren. El sistema Aspect está impulsado por un potente motor de análisis de software, la tecnología AI-Diffract™, que proporciona un tiempo de solución hasta un 90% más rápido que amplía el software NanoDiffract®, líder del sector, aprovechando las amplias capacidades de aprendizaje automático junto con el modelado de alta fidelidad. El resultado es una mejora simultánea del rendimiento metrológico junto con una reducción significativa del tiempo de solución. Aplicaciones - Grabado, limpieza y deposición para NAND 3D Gen7 y posteriores - Grabado e implantación para CIS - Grabado e implantación para DRAM - Caracterización de materiales en el dispositivo para la lógica avanzada