Sistema de metrología para obleas IVS series

para semiconductores

La serie IVS ofrece metrología óptica de superposición y CD para los mercados de semiconductores, semiproductos compuestos, dispositivos de potencia, RF, MEMS y LED. Los sistemas ofrecen un rendimiento de medición superior con mediciones de superposición y CD en la misma receta Descripción del producto El sistema IVS 220 es la última generación de la serie IVS y ha sido diseñado para obtener la máxima precisión, TIS (desplazamiento inducido por la herramienta) y rendimiento en obleas de 200 mm. La piedra angular de la fiabilidad y estabilidad del sistema es su tiempo medio entre fallos (MTBF) de 2.100 horas. El IVS 280 ofrece la misma capacidad en un paquete diseñado para el manejo de pistas aéreas con plena capacidad E84 GEM300. La flexibilidad es fundamental en los procesos de semiconductores compuestos, en los que se pueden ejecutar muchos tamaños, grosores y procesos de oblea diferentes en la misma línea. El sistema IVS es ideal para estas condiciones. La versatilidad en la manipulación de obleas se adapta a muchas variaciones en la composición de las mismas, incluyendo silicio, carburo de silicio, cuarzo, vidrio, GaAs, GaN, LiNO3, InP. La serie IVS también incluye el sistema IVS 200, que es ideal para fábricas más pequeñas y ofrece la posibilidad de actualizar las versiones anteriores de la plataforma IVS a las especificaciones del IVS 200. La serie IVS ayuda a garantizar una disponibilidad óptima del sistema y años de funcionamiento sin problemas. El robusto diseño del sistema de manipulación y navegación de obleas no requiere la asistencia del operario durante la ejecución de las recetas. Las recetas y los datos permanecen estables a lo largo del tiempo. Los algoritmos específicos para aplicaciones MEMS permiten medir una amplia gama de estructuras MEMS. Las capacidades demostradas de la serie IVS para funcionar con alta precisión y sólida fiabilidad distinguen a este sistema.