Sistema de metrología para semiconductores Iris™ series

La serie de herramientas Iris, que incluye los modelos Iris C1, T1 y R1, permite el control de procesos en una amplia gama de aplicaciones en la fabricación de grandes volúmenes con un excelente rendimiento, así como el coste de propiedad. Descripción del producto La serie Iris tiene como objetivo ofrecer a nuestros clientes el mejor coste de propiedad con una configuración óptica específica para aplicaciones HVM en la fabricación de semiconductores. El sistema Iris C1 combina una solución de elipsometría espectroscópica propia de la familia Atlas® con el software de análisis AI-Diffract™ OCD de Onto Innovation, líder en la industria, que permite un control de alta precisión de cada paso crítico del proceso de semiconductores. El sistema incorpora un robot de doble brazo, una platina de alta precisión y un sistema de enfoque de alta velocidad. El sistema también cuenta con un avanzado reconocimiento de patrones, una mejor reproducibilidad del espesor y un mayor rendimiento. La interfaz de software N2000™ y la automatización avanzada cumplen con los estándares adoptados por SEMI y otras organizaciones. El sistema Iris y la solución AI-Diffract proporcionan una visión de los perfiles de estructuras complejas en los procesos de grabado, limpieza, deposición, CMP y películas finas. El Iris T1 es un sistema de elipsómetro espectroscópico que proporciona mediciones precisas y repetibles en línea de espesores y constantes ópticas de películas dieléctricas monocapa y multicapa para aplicaciones en toda la fábrica. Construido sobre la misma plataforma Atlas de eficacia probada, el sistema Iris T1 aprovecha los avances más recientes en óptica y algoritmos, lo que lo convierte en el mejor de su clase en cuanto a rendimiento y coste de propiedad. La interfaz de software N2000™, que cumple con la normativa SEMI/CE, permite compartir recetas entre la serie de herramientas Iris.