El ADPC 302 es un sistema único de gestión de la contaminación en proceso para la supervisión de la contaminación de partículas en la industria de los semiconductores.
Vigilancia eficiente de las partículas
Las partículas del submicrómetro pueden causar defectos que pueden conducir a una considerable pérdida de rendimiento. Incluso las partículas más pequeñas que miden 0,1 µm pueden dañar la estructura de los chips semiconductores.
El innovador ADPC 302 mide el número de partículas en los portadores de transporte de obleas (Vaina unificada de apertura frontal, FOUP, y Caja de envío de apertura frontal, FOSB). El proceso patentado totalmente automatizado localiza y cuenta las partículas de las superficies de los portadores, incluyendo la puerta.
Calificado por los principales laboratorios, este sistema puede ser usado tanto para la producción en serie como para el análisis de I+D. Las principales aplicaciones son la caracterización del portador, la optimización de la estrategia de limpieza y el control de calidad de la limpieza.
Ventajas
El proceso seco (Contador de partículas en seco) del ADPC muestra claros beneficios en comparación con el método húmedo tradicional (Contador de partículas en líquido). La principal ventaja del proceso seco es que la medición de partículas está completamente automatizada. Está integrado en el proceso de producción y por lo tanto no requiere tiempo fuera del período de producción. Gracias a la medición totalmente automatizada, el proceso no requiere un operador adicional. El tiempo de prueba es de sólo siete minutos, lo que significa que el ADPC 302 es cuatro veces más rápido que los sistemas tradicionales. Es posible probar ocho cajas de transporte en una hora.
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