Máquina de deposición PVD PL711

El PL711 es un equipo compacto de recubrimiento por pulverización catódica basado en la tecnología HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering). Dispone de dos cátodos HiPIMS planares y permite depositar recubrimientos de nitruro y carbono seleccionados (DLC2, DLC3) mediante procesos altamente productivos. El plasma denso con alta ionización en el carrusel produce recubrimientos homogéneos y una alta tasa de deposición. Los recubrimientos de PL711 proporcionan excelentes superficies lisas, manteniendo al mismo tiempo una alta densidad, dureza y excelente adherencia. Tecnología Una unidad de recubrimiento PL711 utiliza 2 cátodos de sputtering planares con tecnología HiPIMS. Procesos de grabado En la unidad de recubrimiento PLATIT PL711 pueden utilizarse varias tecnologías de grabado que ofrecen diversas ventajas: LGD® (descarga luminosa lateral) Grabado por plasma con argón, descarga luminosa Grabado con iones metálicos (Ti, Cr) Tipos de deposición Recubrimientos de nitruro por pulverización catódica Procesos reactivos y no reactivos Blancos: Ti, Cr Temperatura de recubrimiento hasta 350°C Sputter Cr y PECVD a-C:H:Si DLC2 (recubrimiento PECVD) Blanco: Cr Temperatura de recubrimiento 180-220°C Tiempos de carga y ciclo Volumen de recubrimiento: máx. ø600 x H805 mm Altura de recubrimiento con espesor de recubrimiento definido: máx. 500 mm Carga: máx. 250 kg, peso superior bajo pedido Lotes/día: 2 Sistemas de carrusel modular 3 ejes o 6 ejes o 9 ejes Software PLATIT SmartSoftware (sistema PC y PLC) Fácil manejo y mantenimiento Moderna interfaz de usuario con navegación por menús en pantalla táctil Visualización del proceso en tiempo real incl. registro y gestión de datos Control manual y automático del proceso Posibilidad de diagnóstico y mantenimiento remotos