Con su diseño modular y su amplia gama de tecnologías disponibles, la PLATIT Pi411 PLUS es la unidad de recubrimiento PVD más flexible del mundo. La configuración básica como unidad de recubrimiento por arco con tres cátodos giratorios en la puerta puede adaptarse modularmente in situ. Puede ampliarse con un cátodo central de arco o sputtering, así como con procesos PECVD y OXI. Otra característica exclusiva de la unidad de revestimiento es la tecnología híbrida LACS®, que permite revestir simultáneamente con tecnologías de arco y sputtering.
Las múltiples opciones de configuración y la gran flexibilidad basada en los cátodos giratorios le permiten desarrollar revestimientos PVD personalizados con el máximo nivel de rendimiento. Esta unidad de recubrimiento es, por tanto, la opción ideal para los clientes que no desean hacer concesiones tecnológicas y valoran la máxima flexibilidad y rendimiento.
Tecnología
La unidad de recubrimiento PVD PLATIT Pi411 PLUS le ofrece varias opciones tecnológicas entre las que elegir:
ECO
Configuración básica: 3 cátodos LARC® (LAteral Rotating Cathode) en la puerta para recubrimiento por arco
PECVD (DLC2)
Para revestimientos a-C:H:Si
TURBO
Configuración ECO + cátodo CERC® (CEntral Rotating Cathode) con tecnología de recubrimiento por arco para una mayor productividad, así como para recubrimientos muy complejos
OXI
Para revestimientos PVD de óxido con estructura de corindón
SCIL
Pulverización catódica de alto rendimiento desde el cátodo central
LACS® híbrido
Procesos simultáneos de arco y sputtering con cátodos LARC® en la puerta y cátodo central SCIL
Procesos de grabado
Con la unidad de revestimiento PLATIT Pi411 PLUS pueden utilizarse varias tecnologías de grabado que ofrecen diversas ventajas:
LGD® (descarga luminosa lateral)
Grabado por plasma con argón, descarga luminosa
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