Máquina de deposición PVD
por pulverización catódica con magnetrónde película finade vacío

Máquina de deposición PVD - Powertech - por pulverización catódica con magnetrón / de película fina / de vacío
Máquina de deposición PVD - Powertech - por pulverización catódica con magnetrón / de película fina / de vacío
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Características

Método
PVD
Tecnología
por pulverización catódica con magnetrón
Tipo de deposición
de película fina
Otras características
de vacío, en línea
Aplicaciones
para la industria de la microelectrónica, para aplicaciones automóviles

Descripción

Línea de producción de revestimiento por pulverización magnetrónica continua Mediante el método de formación de película por pulverización magnetrónica a baja temperatura, asistiendo al bombardeo de iones a alta presión, los revestimientos de Dy y Tb se recubren rápidamente sobre materiales de neodimio hierro boro, y se obtienen materiales magnéticos de alto rendimiento mediante la tecnología de difusión de límite de grano, lo que ahorra la cantidad de tierras raras pesadas y reduce la cantidad para las empresas del coste de producción del producto. De acuerdo con los requisitos de producción, nuestra empresa realiza planes de diseño especiales para la utilización de los objetivos, la tasa de conversión del recubrimiento, la tasa de deposición, la eficiencia de la producción y otras cuestiones. Satisfacer el control de costes de los clientes y proporcionar soluciones integrales.

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* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.