Máquina de deposición PVD SP seriespor pulverización catódica con magnetrónde capas finas de siliciode vacío
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Características
- Método
- PVD
- Tecnología
- por pulverización catódica con magnetrón
- Tipo de deposición
- de capas finas de silicio
- Otras características
- de vacío, con cátodos rotatorios, de ciclo corto, en línea, óptica
- Aplicaciones
- para la industria de la microelectrónica, para aplicaciones automóviles, para recubrimiento de cristal, para aplicaciones fotovoltaicas, para espejo, para pantallas, para vidrio reflectante, lente de vidrio, para lente óptica
Descripción
Nuestra tecnología de máquina de recubrimiento por magnetrón óptico tiene un sistema de formación de película estable, y el método de control preciso de apoyo ha sido ampliamente utilizado por las principales empresas.
Este tipo de equipo está equipado con un conjunto completo de equipos químicos disponibles para maximizar la productividad y la eficiencia del cliente. Nuestra exclusiva fuente de objetivo de alta ionización SI, ayuda a complementar la preparación de la película de alta refracción equilibrada en la producción. Esta tecnología puede producir películas AR+AF y películas ópticas y de gradiente de color. Este tipo de equipo tiene una forma de formación de película de baja temperatura, que se puede utilizar para la producción de películas superficiales de varios productos. El equipo tiene un modo de control de sputtering totalmente automático, monitorea en tiempo real el estado de la película, para lograr una producción estable y por lotes.
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* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.