Máquina de grabado en obleas por vía húmeda

La herramienta de grabado húmedo de RENA para aplicaciones cáusticas o ácidas está diseñada para obtener resultados superficiales excepcionales en la producción de obleas semiconductoras. El grabado ácido combinado con un sistema de transporte rápido permite un control preciso del proceso. Para obleas de hasta 300 mm, esta herramienta totalmente automatizada cumple todos los requisitos de la producción de obleas de gama alta. Además, las capacidades de procesamiento de medio paso sin soporte garantizan las mayores tasas de producción junto con un alto rendimiento. Nuestra plataforma de grabado de obleas cumple todas las normas SEMI. Características y ventajas Tamaño de oblea de hasta 300 mm Excelente control de la forma Parada de grabado en menos de 1 segundo Perfecta homogeneidad de grabado Manipulación sin soporte Sistema de medio paso para el máximo rendimiento Control avanzado del proceso Transporte de obleas múltiples al puerto de carga OHT