Para los procesos de química húmeda en semiconductores de varios pasos, RENA ofrece un banco húmedo semiautomatizado flexible y compacto, el "Revolution". Esta plataforma consta de un robusto robot rotativo central integrado y hasta 5 depósitos de proceso situados alrededor del robot. El "Revolution" es la solución más idónea, de mínima huella y bajo coste, para aplicaciones que requieren una secuencia de procesos de varios pasos. Permite el tratamiento de superficies de obleas semiconductoras, incluido el grabado, la limpieza y la eliminación de resistencias, tanto en aplicaciones FEoL como BEoL.
La "Revolution" ofrece un control y una supervisión superiores del proceso gracias al software IDX Flexware. El IDX Flexware ofrece características y capacidades ventajosas. En función de los requisitos del cliente, se pueden incorporar a esta estación química configuraciones especializadas de tanques de proceso, por ejemplo, tanques patentados de grabado de metales y de despegue de metales. Para los procesos de secado a secado, se pueden integrar los secadores patentados Genesis Marangoni.
Todos los sistemas RENA son de fácil mantenimiento y cumplen la interfaz SECS/GEM de host de fábrica.
Características y ventajas
Capacidad de secado en seco
tamaños de oblea de 100 mm a 200 mm
Software de control IDX Flexware
Secuencias de múltiples pasos
Múltiples tecnologías propias
Pantalla táctil HMI
Robot rotativo robusto
Opciones de interfaz SECS/GEM
Mini-ambiente como opción
Versión de acero inoxidable para aplicaciones con disolventes
Flexible y actualizable
Adaptado a las especificaciones del cliente
Reducción del uso de productos químicos y agua desionizada
Menores costes de instalación
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