Sistema de limpieza tratamiento por vía húmeda Inception

de disolventepor aspersióncon ácido

RENA Inception, el sistema compacto semiautomatizado de procesamiento de obleas individuales, es una solución ideal para los procesos de limpieza química húmeda, grabado y disparo de resistencias. Esta plataforma permite la transición de I+D a la producción piloto en la fabricación de semiconductores. Inception puede utilizarse para aplicaciones ácidas en FEoL, así como para aplicaciones con disolventes en BEoL. Proporciona una uniformidad de grabado superior <= 1% dentro de la oblea, de oblea a oblea y de lote a lote. Inception consta de dos brazos de pulverización móviles con líneas de productos químicos independientes que, junto con el diseño de depósitos múltiples, proporcionan características de procesamiento en varios pasos. Se dispone de una variedad de mandriles para diferentes tamaños de oblea y sustrato que permiten una fácil configuración para diferentes aplicaciones. El software IDX Flexware de RENA proporciona muchas funciones ventajosas para el control y la supervisión del proceso. Todos los sistemas RENA son compatibles con la interfaz SECS/GEM de host de fábrica. Características y ventajas Obleas de hasta 200 mm y máscaras de hasta 7 x 7 La uniformidad de grabado supera a la de los sistemas por lotes Manipulación manual o automatizada de obleas Puerto de carga simple o doble tanque de proceso químico de 2 a 4 Controles de concentración muy precisos (ABB, Horiba, CI Semi) Capacidad de adición hiperprecisa (química y DI) Compensación automática de pérdidas químicas Ocupa poco espacio