El equipo de procesamiento automatizado InOxSide® 3 de RENA está diseñado como una solución integrada para el aislamiento de bordes, el pulido de la cara posterior y la eliminación del vidrio dopado de las células solares de silicio. Mediante el proceso de menor coste de propiedad y mejor rendimiento, la tecnología InOxSide® es la mejor opción para la fabricación de células solares de silicio Al-BSF, PERC y PERT. Se basa en la plataforma en línea RENA NIAK.
Características y ventajas
Grabado químico húmedo de una cara totalmente automatizado en un proceso en línea de 5/6 vías
Grabado de emisores por una cara, pulido de la cara posterior y eliminación de vidrios dopados (PSG/BSG)
Utiliza HF/HNO3/H2SO4 para el grabado de una cara, con lo que se consigue el mejor coste de propiedad (CoO) de su clase
Tecnología patentada RENA
Grabado posterior ajustable: de 1 a 5 µm, hasta 6 µm con la opción RENA PreCon)
Enjuague y secado integrados de la oblea
Rendimiento de hasta 6000 obleas/hora
Compatible con tamaños de oblea M0, M1, M2, M4, M6 y M12
Larga vida útil del baño gracias a la función de alimentación y sangrado
Sistema de dosificación preciso para una composición constante del baño
Utiliza un diseño de rodillo sin junta tórica
El índice de rotura más bajo de la industria
Basada en la plataforma de procesamiento en línea RENA NIAK
Alto tiempo de funcionamiento
Fácil mantenimiento
Opciones
Interfaz MES (SECS/GEM)
Armario de medios para el suministro de productos químicos
Estación de bombeo de residuos para drenaje químico / aguas residuales
Sensores para el control de procesos (por ejemplo, pH, conductividad)
RENA RaPID (solución anti-PID de RENA)
---