InPolySide® 3+ proporciona un grabado superior de la cara posterior y los bordes para aplicaciones TOPCon. Se elimina la envoltura Poly-Si de LPCVD y PECVD. Con un alto rendimiento y total flexibilidad en el tamaño de la oblea, es la herramienta preparada para la próxima generación de células solares. Diseñada como una solución de una sola herramienta que ahorra espacio, la InPolySide® cubre los pasos de grabado previo al óxido, grabado de poli, limpieza o grabado de vidrio y enjuague. No es necesaria ninguna manipulación adicional de las obleas.
Campos de aplicación
Tecnología TopCon
Posibilidad de actualización desde PERC
Grabado de una cara y de los bordes de Poli-Si
Características y ventajas
Grabado de bordes para células TopCon sin derivación
Proceso muy variable y conocido, adaptable a las demandas de los clientes:
- Bajo CoO
- Células de tipo N
- Emisor selectivo para todos los tipos disponibles de Poly-Si (PECVD, LPCVD)
Proceso patentado por RENA
Configuración de hardware y ajustes de proceso altamente optimizados
solución de 1 herramienta
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