Espectrómetro de fluorescencia TXRF-V450

de fluorescencia de rayos X por reflexión totalde procesoen estado sólido

El análisis de TXRF puede calibrar la contaminación en todos los procesos fabulosos, incluyendo la limpieza, el litho, el grabado de pistas, la incineración, películas, el etc. El TXRF-V450 puede medir elementos del Na con U con una solo-blanco, el sistema de la radiografía de 3 haces y un sistema nitrógeno-libre líquido del detector. El TXRF-V450 incluye el sistema patentado de la etapa de la muestra de XYθ de Rigaku, un sistema de transferencia robótico de la oblea del en-vacío, y nuevo software fácil de usar de las ventanas. Todos los éstos contribuyen a una producción más alta, una exactitud y una precisión más alta, y funcionamiento general fácil. La capacidad integrada de VPD permite la preparación automática de VPD de una oblea mientras que una medida de TXRF se hace en otra oblea para la sensibilidad más alta y la alta producción. VPD-TXRF elimina la variabilidad del operador que puede ocurrir con ICP-MS, y VPD-TXRF se puede controlar totalmente vía la automatización de fábricas. La recuperación de VPD de áreas seleccionadas, incluyendo el área biselada, está disponible. El software opcional del barrido TXRF permite a trazado de la distribución del contaminante sobre la superficie de la oblea identificar las “zonas activas” que se pueden remedir automáticamente en una precisión más alta. La capacidad opcional de ZEE-TXRF supera la exclusión histórica del borde de 15m m de los diseños originales de TXRF, permitiendo a medidas ser hecho con la exclusión cero del borde. La capacidad opcional de BAC-TXRF permite medidas lleno-automatizadas del delantero-lado y de la parte trasera TXRF de las obleas de 450m m con mover de un tirón sin impacto de la oblea.