Espectrómetro de fluorescencia TXRF 3760

de fluorescencia de rayos X por reflexión totalde procesocompacto

TXRF 3760 El análisis de TXRF puede medir la contaminación en todos los procesos de fabricación, incluyendo la limpieza, litografía, grabado, películas, incineración, etc. El TXRF 3760 puede medir los elementos de Na hasta U con un solo objetivo, un sistema detector de estado sólido y un sistema de rayos X de triple haz. El TXRF-310 incluye el sistema patentado de fase de muestra Xyθ de Rigaku, un sistema robótico de transferencias de obleas en vacío, y un nuevo software de Windows fácil de usar. Todo esto contribuye a un mayor rendimiento, exactitud, y precisión, y también es fácil de operar. El software opcional Sweeping TXRF permite la asignación de la distribución contaminante sobre la superficie de la oblea para identificar los "puntos calientes" que pueden ser automáticamente medidos de nuevo para una mayor precisión. La capacidad opcional del ZEE-TXRF sobrepasa los históricos 15mm de borde de exclusión de los diseños originales TXRF, lo que permite realizar mediciones con cero borde de exclusión. Features Facilidad de operación y rápido análisis de resultados Acepta obleas de 200 mm y más pequeñas Diseño compacto, para espacios reducidos Fuente de ánodo rotativo de alta potencia Amplia gama de elementos de análisis (Na ~ U) Sensibilidad a elementos ligeros (para Na, Mg y Al) Aplicación a Si descubierto y de sustratos sin Si Coordina la importación de medidas desde las herramientas de inspección de defectos para el seguimiento de análisis