Máquina de deposición ALD PD-520 series

de película fina

Deposición en capa fina de AlO+SiN. - Proceso de deposición de capa atómica, con mejor uniformidad de la película. - La película fina multicapa se deposita en el mismo equipo de proceso o en el mismo tubo de horno, lo que reduce los pasos del proceso y la tasa de rotura de obleas y mejora el rendimiento de forma eficaz. - I+D independiente de la tecnología de suministro de vapor de precursor de fuente líquida y de cambio rápido de precursor. - Adecuado para la deposición de la capa de pasivación para diferentes precursores y materiales, con un gran espacio para la expansión del proceso.