Máquina de deposición PVD 280-PO
por evaporación termicade película finade vacío

Máquina de deposición PVD - 280-PO - Satisloh - por evaporación termica / de película fina / de vacío
Máquina de deposición PVD - 280-PO - Satisloh - por evaporación termica / de película fina / de vacío
Máquina de deposición PVD - 280-PO - Satisloh - por evaporación termica / de película fina / de vacío - imagen - 2
Máquina de deposición PVD - 280-PO - Satisloh - por evaporación termica / de película fina / de vacío - imagen - 3
Máquina de deposición PVD - 280-PO - Satisloh - por evaporación termica / de película fina / de vacío - imagen - 4
Máquina de deposición PVD - 280-PO - Satisloh - por evaporación termica / de película fina / de vacío - imagen - 5
Añadir a mis favoritos
Añadir al comparador
 

Características

Método
PVD
Tecnología
por evaporación termica
Tipo de deposición
de película fina
Otras características
de vacío, óptica
Aplicaciones
para lentes oftalmológicas

Descripción

La 280-PO es una máquina de recubrimiento al vacío compacto e independiente con flexibilidad para depositar una gama de tipos de recubrimiento de capa fina en lentes ópticas de precisión. Proporciona pilas de capa fina consistentes y sofisticadas con una configuración del proceso intuitiva y sencilla. La 280-PO es ideal para pequeñas series de producción, I+D, instituciones educativas, aplicaciones de microóptica y más. Recubrimiento de película fina al vacío para producción a pequeña escala y creación de prototipos La tecnología sofisticada y la flexibilidad del proceso de recubrimiento no tienen por qué estar reservadas a las grandes instalaciones de producción. La 280-PO combina un gran equipamiento tecnológico con un tamaño compacto. Esto hace que sea ideal no sólo para producciones de lentes de pequeño volumen, sino también para I+D, creación de prototipos y desarrollo de procesos. Al igual que las demás máquinas de recubrimiento al vacío de Satisloh, ofrece un rendimiento óptimo y puede personalizarse según las necesidades del cliente. Flexibilidad y eficiencia Tiempos de ciclo rápidos con el bombeo de vapor de agua de la trampa Meissner opcional. Opciones de calentamiento del sustrato a alta y baja temperatura. EBG simple y fuente térmica resistiva opcional. Cúpula completa para un rendimiento óptimo. Software de control HMI fácil de usar. Tamaño de cámara perfecto para la producción de pequeños volúmenes, la creación de prototipos y las aplicaciones de I+D.
* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.