Deposición de capa de óxido túnel, i-Poly y D-poly para células solares TOPCon.
- Características de proceso de baja presión y pared caliente, con mejor uniformidad de la película y buena compacidad.
- Proceso LPCVD, sustratos densamente cargados tienen poco efecto en la tasa de recubrimiento, con gran capacidad de carga en un solo tubo.
- Más zonas de temperatura para garantizar la uniformidad entre obleas de forma fiable.
- Entrada de aire segmentada ajustable independientemente para compensar el efecto de agotamiento del flujo de aire.
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