Evaporador por bombardeo iónico EFM 3

de laboratorio

Área de evaporación Ø 5 - 20 milímetros Monitor del flujo Obturador integrado Posterior-cargamento de evaporant EFM 3 para VT SPM y para los paquetes de TENIENTE SPM Un producto del FOCO El EFM 3 se diseña para el crecimiento de la película fina y el epitaxy de viga molecular. el Secundario-monolayer y los sistemas de múltiples capas se pueden producir con las tarifas de la evaporación que varían a partir del monolayer la 1/10 por minuto sobre a 1000 monolayers por segundo. La refrigeración por agua asegura la presión baja del fondo (típicamente en la gama mbar 10-10) durante la evaporación - y permite así el crecimiento de películas ultra-puras. La viga evaporant exacto definida permite la deposición altamente uniforme en la muestra. El área de la deposición es determinada por la opción de tres diversas fácilmente aberturas cambiables de la salida y la distancia de la fuente a la muestra. Una parte de la viga evaporant se ioniza. Cuando estos iones golpean el substrato, pueden crear defectos en la superficie del substrato y depositar energía. Para evitar esto el EFM 3 se puede equipar opcionalmente de un supresor del ion que rechace los iones nuevamente dentro del EFM.