Horno de cámara
tratamiento térmicode grafitizaciónde vacío

Horno de cámara - SECO/WARWICK S.A. - tratamiento térmico / de grafitización / de vacío
Horno de cámara - SECO/WARWICK S.A. - tratamiento térmico / de grafitización / de vacío
Horno de cámara - SECO/WARWICK S.A. - tratamiento térmico / de grafitización / de vacío - imagen - 2
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Características

Configuración
de cámara
Función
tratamiento térmico, de grafitización
Atmósfera
de vacío
Otras características
de grafito, industrial

Descripción

Los hornos CVD (Chemical Vapor Deposition) son hornos especiales utilizados en el proceso CVD, que es una técnica para producir revestimientos mediante reacciones químicas en fase gaseosa, por ejemplo, a partir de MTS (CH3SiCl3-gas metiltriclorosilano). Están diseñados para permitir la deposición controlada de materiales en la superficie de los materiales procesados. Los equipos de CVD contienen una cámara de reacción en la que se controlan parámetros como la temperatura, la presión y la composición química del gas de proceso. El CVD es una técnica de producción de revestimientos sobre las superficies de los sustratos mediante reacciones químicas en fase gaseosa. El proceso de deposición química (CVD) es una técnica utilizada, por ejemplo, para producir revestimientos protectores (perforación de herramientas). El horno CVD crea capas protectoras sobre las herramientas, aumentando su durabilidad, resistencia y eficacia durante el procesamiento. En el proceso CVD, las reacciones químicas permiten depositar capas sobre la superficie de la herramienta, mejorando sus propiedades. Estos recubrimientos proporcionan una mayor resistencia a la abrasión, las altas temperaturas y los entornos corrosivos, lo que se traduce en una mayor vida útil de las herramientas y una mayor eficacia durante la producción industrial.

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