Impurezas eliminadas: O2, H2O, H2
- Proceso de purificación: adsorción + catálisis
- Principio: el gas pasa por un catalizador especial y una capa adsorbente donde se eliminan las impurezas.
- Principal ámbito de uso: industria de semiconductores, gas de soldadura, gases protectores..
Información técnica:
- Presión: hasta 380 barg
- Nivel de impurezas a la salida: < 10 ppb
- Versión semiautomática o automática (HMI/PLC)
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