Alimentación eléctrica DC/DC EBL

monofásicacon protección contra cortocircuitoscon protección contra sobrecargas

La fuente de alimentación de alta tensión EBL de Wisman está diseñada para aplicaciones de haz de electrones de precisión, como la nanolitografía de semiconductores, la microóptica y el trabajo con máscaras de desarrollo. Tiene especificaciones de ondulación ultrabaja y estabilidad excelente, lo que resulta muy adecuado para aplicaciones con exigencias muy estrictas. Proporciona un rango seleccionable de corriente de salida baja y corriente de salida alta. La parte de alto voltaje del encapsulado sólido elimina cualquier problema de mantenimiento del usuario a la vez que aísla los componentes de las variables ambientales. El dispositivo está totalmente protegido contra sobrecargas, arcos y cortocircuitos. Proporciona funciones de programación y supervisión por control remoto. Permite la medición pasiva precisa de la salida de alta tensión. Comunicación digital opcional USB2.0, puerto de red, RS-232, RS485, personalizable según los requisitos del usuario. APLICACIÓN TÍPICA Microóptica Litografía de semiconductores Máquina de exposición de semiconductores Máscara ESPECIFICACIÓN Tensión de entrada: Interruptor opcional Regulación de tensión :±0,001% de la tensión nominal dentro del rango de tensión de entrada especificado Regulación de carga: ≤20V, cambios de corriente de 25μA a 60μA y de 60μA a 25μA ondulación: Valor pico a pico≤70mV Microdescarga de alta tensión: Menos de 200mV estabilidad: Tras 6 horas de precalentamiento, 0,001% cada 8 horas, la temperatura es de 20℃±0,2℃ Coeficiente de temperatura:25ppm por grado Celsius en el rango de 10°C a 40°C Entorno: Temperatura de funcionamiento: 0 a 40 grados Celsius Temperatura de almacenamiento: -40 a 85 grados Celsius Humedad: 10 a 90% HR, sin condensación Refrigeración: Refrigeración por convección Panel frontal: