Máquina de deposición PVD RTSP1000
PE-CVDpor pulverización catódica con magnetrónde evaporación por arco

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Características

Método
PVD, PE-CVD
Tecnología
por pulverización catódica con magnetrón, de evaporación por arco, asistida mediante haz de iones
Tipo de deposición
de película fina, para recubrimiento de carbono diamante
Otras características
de vacío
Aplicaciones
para la industria de la microelectrónica, para módulos fotovoltaicos

Descripción

El sistema desequilibrado de la deposición de la farfulla del magnetrón del campo cerrado, desequilibró el magnetrón que farfullaba a Ion Plating Los procesos desequilibrados y cerrados del magnetrón del campo tienen todas las ventajas de magnetrones planares. Las ventajas y las desventajas adicionales son: Bombardeo adicional del ion dando por resultado las películas densas, adherentes Ayuda del ion y limpieza del substrato posible Tribológico mejorada, desgaste y películas resistentes a la corrosión Favorable a las películas de múltiples capas, del superretículo, nanolaminant y del nanocomposite Un uso de materiales más pobre Una configuración/un costo más complejos del cátodo Magnetrón desequilibrado y cerrado del campo que farfulla las propiedades revolucionadas realizables por procesos de la farfulla del magnetrón. Como acertado con la película fina mejorada tribológica, la resistencia a la corrosión y propiedades ópticas como esta tecnología eran, las mejoras en tecnología del magnetrón acababan de comenzar. Blog siguiente que nos movemos sobre usos del magnetrón de la película fina giratoria y cilíndrica de los procesos y el resultar.

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