Máquina de deposición PVD RTAC1250-SPMF
por pulverización catódicade evaporación por arcode película fina

máquina de deposición PVD
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Características

Método
PVD
Tecnología
por pulverización catódica, de evaporación por arco
Tipo de deposición
de película fina
Otras características
de vacío, con cátodos rotatorios
Aplicaciones
para recubrimiento de cristal, para espejo, para aplicaciones fotovoltaicas

Descripción

Resumen: La evaporación del arco de PVD combinada perfectamente con tecnología de la farfulla de la frecuencia intermedia, genera la calidad de gama alta funcional y las capas estéticas en productos emergen. ¿Por qué farfulla de la frecuencia intermedia? Comparado con DC y el RF que farfullaban, la frecuencia media que farfullaba se ha convertido en una técnica principal de la farfulla de la película fina para la producción en masa de la capa, particularmente para la deposición de la película de las capas dieléctricas y no-conductoras de la película en superficies tales como capas ópticas, paneles solares, capas múltiples, película etc. del material compuesto. Está substituyendo la farfulla del RF debido a ella actuó con el kilociclo bastante que el megaciclo para una tarifa de deposición mucho más rápida y también puede evitar el envenenamiento de la blanco durante la deposición compuesta de la película fina como DC. Las blancos de la farfulla de la frecuencia intermedia existieron siempre con los dos-sistemas. Dos cátodos se utilizan con una corriente de la CA cambiada hacia adelante y hacia atrás entre ellas cuáles limpian la superficie de la blanco con cada revocación para reducir el aumento de la carga en los dieléctricos que ése lleva a la formación de arcos que puede arrogar gotitas en el plasma y prevenir crecimiento de película fina uniforme--- cuál es lo que llamamos Target Poisoning. Con el sistema de la farfulla de la frecuencia intermedia, podemos conseguir el color del grafito, los datos del LABORATORIO: (L: 30~35). A: - 0,04, B: 08

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