Máquina de deposición PVD Multi950

PE-CVDpor pulverización catódica con magnetrónde evaporación por arco

La máquina Multi950 es un sistema modificado para requisitos particulares de la deposición de vacío de las funciones del múltiplo para el R&d. Con la discusión del medio año con el equipo de la universidad de Shangai plomado por profesor Chen, finalmente confirmamos el diseño y las configuraciones para satisfacer el suyo los usos del R&D. Este sistema puede depositar la película transparente de DLC con proceso de PECVD, capas duras en las herramientas, y la película óptica con el cátodo de la farfulla. De acuerdo con este concepto de diseño experimental de máquina, hemos desarrollado 3 otros sistemas de capa después de entonces: 1. Capa bipolar de la placa para los vehículos eléctricos FCEV1213 de Fuel Cell, 2. de cerámica dirija el cobre plateado DPC1215, 3. sistema flexible RTSP1215 de la farfulla. La máquina de estos 4 modelos es toda con la cámara octal, flexible y los funcionamientos confiables se utilizan extensivamente en diversos usos. Satisface los procesos de la capa requiere diversas capas multi del metal: Al, Cr, Cu, Au, AG, Ni, Sn, SS y muchos otros metales no--feeromagnetic; más la unidad de la fuente de ion, aumente eficientemente la adherencia de las películas en diversos materiales del substrato con su funcionamiento de la aguafuerte del plasma y, el proceso de PECVD para depositar alguno las capas carbono-basadas. El Multi950 es el jalón de los sistemas de capa avanzados del diseño para la tecnología real. Aquí, nosotros los estudiantes universitarios agradecidos y especialmente Yigang de proceso Chen de Shangai de las gracias, su esmero creativo y desinteresado somos valores ilimitados e inspiramos a nuestro equipo.