Máquina de deposición PVD RTSP1000

PE-CVDpor pulverización catódica con magnetrónasistida mediante haz de iones

Royal Technology desarrolló cátodos de pulverización catódica de alto rendimiento y alta utilización de objetivos, especialmente para la pulverización catódica de metales raros y caros: deposición de películas de metal de plata Au Gold, Ta Tantalum y Ag. El sistema de deposición de película de alta uniformidad ha estado sirviendo a varias industrias como piezas de electrónica, componentes de instrumentos médicos que requieren alta uniformidad de película, deposición de múltiples capas. Los procesos de magnetrón de campo cerrado y no balanceados tienen todas las ventajas de los magnetrones planos. Las ventajas y desventajas adicionales son: Bombardeo iónico adicional que resulta en películas densas y adherentes Asistente de iones y posible limpieza del sustrato Películas tribológicas, resistentes al desgaste y a la corrosión mejoradas Disponible para películas multicapa, superredes, nanolaminantes y nanocompuestas Menor uso de materiales Configuración / gasto de cátodos más complejo El sputtering de magnetrón de campo cerrado y no balanceado revolucionó las propiedades que se pueden lograr mediante procesos de sputtering de magnetrón. Tan exitoso con la mejora de las propiedades ópticas, tribológicas, de resistencia a la corrosión y ópticas de la película delgada como lo fue esta tecnología, las mejoras en la tecnología de magnetrón acababan de comenzar. En el siguiente blog pasamos a los procesos de magnetrón rotativo y cilíndrico y las aplicaciones de película delgada resultantes.