Máquina de deposición PVD RT-C60
por evaporación termicade película finade película metalizada

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Características

Método
PVD
Tecnología
por evaporación termica
Tipo de deposición
de película fina, de película metalizada, de carburo
Otras características
de vacío
Aplicaciones
para la industria de la microelectrónica, para la optoelectrónica, para aplicaciones fotovoltaicas, para módulos fotovoltaicos, para condensador

Descripción

La máquina de recubrimiento por evaporación por inducción RT-C60 está diseñada para la deposición por evaporación C60 en una variedad de materiales. C60 fabrica proporciona resultados de I + D y pruebas para prospectiva. Una potente herramienta que les ayuda a expandir nuevas industrias aplicadas. El primer juego se produce para la Universidad de Shanghai. El modelo de producción industrial está en proceso. Aplicaciones Fabricantes de material C60 para realizar I + D en sus industrias aplicadas como fotovoltaica, células solares, células de combustible, sensores, semiconductores, etc. Áreas de depósito de película de material C60: Semiconductores Vidrio Polímeros Electrónica óptica Otros productos industriales, incluidas películas para envasado de alimentos, tiras de metal, etc. Con la tecnología de recubrimiento por chorro en el entorno de la cámara de vacío, deposite átomos de C60 en la superficie del producto que condensan la capa de película delgada de C60 de alta pureza. Nuestra máquina RTEP400-C60 está desarrollada exclusivamente para la investigación y el desarrollo de aplicaciones C60. Caracteristicas de diseño:  Presión de vacío final ultra alta: hasta 9.0 * 10-5Pa; Dispositivos de calentamiento rápido para una buena adherencia; Sistema de recubrimiento robusto, compacto y sólido; Diseño de fuente de evaporación de calentamiento por inducción exclusivo para la deposición de C60;  Potencia del evaporador de inducción: moneda de RF  Orientación vertical, modelo de campana, apertura superior

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Recubridor de evaporación térmica

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