Máquina de deposición PVD RTSP800-Au
por pulverización catódicade película finade vacío

Máquina de deposición PVD - RTSP800-Au - Shanghai Royal Technology Inc. - por pulverización catódica / de película fina / de vacío
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Características

Método
PVD
Tecnología
por pulverización catódica
Tipo de deposición
de película fina
Otras características
de vacío
Aplicaciones
para la industria de la microelectrónica, para aplicaciones automóviles, para aplicaciones fotovoltaicas, para recubrimiento de cristal, para módulos fotovoltaicos, para pantallas, para condensador, para película conductora

Descripción

El oro cubrió las diapositivas de cristal y las obleas de silicio utilizan el proceso de PVD del magnetrón de DC que farfulla para depositar capa de la película fina del metal del Au en substrages, como: diapositiva de cristal, mercancías etc. de las obleas de silicio, de la joyería del metal, del acero, de cristal y de cerámica. Excepto el Au que farfulla, puede también farfullar la plata del AG, el cobre del Cu, el aluminio del Al, el Cr Chrome, el acero inoxidable 316L etc. de los SS para la película conductora o los altos usos de lujo de la decoración. Las características de la capa de la farfulla del oro: 1. La capa de la adherencia del Ti o del Cr entre los substratos y la capa del oro es fuertes recomendadas para mejorar la adherencia; 2. El grueso de la capa del oro: se extiende de 10~100nm basado en diversos usos ópticos. 3. El roughtness (RMS - media cuadrada de la raíz) 4. Pureza superficial de la capa de la farfulla del oro: una superficie limpia se requiere para los usos que emplean las modificaciones superficiales del oro. Dependiendo del PVD procese utilizado, llano del vacío en el sistema, pureza original de la fuente del oro, e historia de los metales usados en el sistema particular que el nivel de pureza de la película fina del oro puede variar grandemente. Como tecnología avanzada de la capa que pueda reducir el coste de producción del hasta 80% y el más importante es el gran acabamiento superficial.

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