Máquina de deposición CVD RT-Parylene Coating-CVD-3
por evaporación termicade película finade poliparaxilileno

Máquina de deposición CVD - RT-Parylene Coating-CVD-3 - Shanghai Royal Technology Inc. - por evaporación termica / de película fina / de poliparaxilileno
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Características

Método
CVD
Tecnología
por evaporación termica
Tipo de deposición
de película fina, de poliparaxilileno
Aplicaciones
para el sector médico, para aplicaciones farmacéuticas

Descripción

La tecnología real proporciona polímero servicio de capa y equipo de capa para capa impermeables con la película nana de parileno. La tecnología de capa de parileno es ampliamente utilizada adentro reliquias aeroespaciales, preciosas, goma de silicona, sellos, materiales magnéticos, MEMS, placas de circuito, sensores, biomedical y otros campos. el producto De parileno-revestido puede aumentar el aislamiento de la fuerza y de la temperatura, prueba de la abrasión, resistencia química (sustancia química diluida), resistente a la corrosión. Nuestro equipo está siendo utilizado actualmente por muchas empresas grandes por todo el mundo. ¿Cuál es de parileno? Es un material protector del poliéster transparente y descolorido. Es conveniente para la vacuometalización en la temperatura ambiente, y la presión de la vacuometalización está debajo de 10-5 torres, mientras que el proceso de capa de parileno es cerca de 0,1 torres. El grueso de la capa se puede controlar entre 1-100 micrones. La capa es una patente desarrollada por los Estados Unidos a principios de los años 60. Primero fue aplicada al campo de los componentes microelectrónicos para los militares de los E.E.U.U. imprimió los dispositivos de las placas de circuito, aeroespaciales y subacuáticos del lanzamiento, 1972 incluidos en los estándares militares de los E.E.U.U. adentro: MIL-I-46058C Tecnología de proceso micro y nana: deposición de vapor químico (CVD) Ponga los nano-materiales pulverizados en la cámara de la evaporación del equipo de la nano-capa del vacío, y evapórese en las moléculas gaseosas en una temperatura de 150℃-180℃. Bajo acción del vacío (1.0*10-2torr),

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