Máquina de deposición PVD RT-R2R-SP
por pulverización catódica con magnetrónasistida mediante haz de ionesde capas hidrófugas finas

máquina de deposición PVD
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Características

Método
PVD
Tecnología
por pulverización catódica con magnetrón, asistida mediante haz de iones
Tipo de deposición
de capas hidrófugas finas
Otras características
de vacío
Aplicaciones
para la industria de la microelectrónica, para aplicaciones fotovoltaicas, para módulos fotovoltaicos, para la optoelectrónica, para condensador, para película conductora

Descripción

Máquina de pintar de la web de la película/rollo bajos-e de la web para rodar la máquina de capa de la farfulla del vacío Estamos satisfechos proponer que nuestras MultiWeb-series ruedan para rodar la máquina de pintar de la web de la farfulla del vacío para cumplir sus requisitos de múltiples capas de la deposición. Usos bajos-e de la máquina de pintar de la web de la película: papel electrónico, circuitos flexibles, tiras fotovoltaicas, médicas, RFID (identificación de la radiofrecuencia) y película baja-e. PELÍCULAS DE LA DEPOSICIÓN 1. material del substrato: ANIMAL DOMÉSTICO, PLUMA, PES, PI, PC, PA,… Películas 2. grueso del substrato: el 15~300μm 3. métodos de la deposición: CA reactiva para SiO2 (dieléctrico); DC pulsado para ITO (metal y conductor) 4. conductor TCO del óxido: ITO, AZO, IZO… 5. conductor del metal: Al, Cu, MES, AG… 6. película óptica: Ta2O5, Nb2O5, SiO2, TiO2… 7. semiconductor: ZnO, InGaZnO… 8. aislador: SiO2, SiNx, AlOx, AlNx… 9. uniformidad: El ±5% a través de la web

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