Máquina de deposición PVD RTAS1000
por pulverización catódica con magnetrónde película finade vacío

Máquina de deposición PVD - RTAS1000 - Shanghai Royal Technology Inc. - por pulverización catódica con magnetrón / de película fina / de vacío
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Características

Método
PVD
Tecnología
por pulverización catódica con magnetrón
Tipo de deposición
de película fina
Otras características
de vacío
Aplicaciones
para aplicaciones automóviles, para el sector médico

Descripción

El magnetrón que farfulla es ampliamente utilizado depositar los metales refractarios como el tantalio, el titanio, el tungsteno, el niobio, que requerirían mismas temperaturas altas de la deposición, y los metales preciosos: El oro y la plata y cuál también se utiliza para la deposición de metales más de temperatura de fusión baja de los puntos como el cobre, aluminio, níquel, el cromo etc. El tantalio se utiliza más en la industria electrónica como capa protectora debido a su buena resistencia a la erosión. Usos de la película fina del tantalio Sputtered: 1. la industria de la microelectrónica como las películas pueden ser farfulladas reactivo y así el coeficiente de la resistencia y de temperatura de resistencia pueden ser controlados; Instrumentos médicos como los implantes del cuerpo para su altamente propiedad del biocompatability; Capas en partes resistentes a la corrosión, tales como thermowells, cuerpos de válvula, y sujeciones; El tantalio farfullado puede deber también ser utilizado como barrera eficaz de la resistencia a la corrosión si la capa es continua, desertada y es adherente al substrato se piensa proteger.

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