Máquina de deposición PVD CsI950

de evaporación por arcode película metalizadade vacío

El sistema de la deposición de alto vacío CsI950 se diseña exclusivamente para CsI y la metalización de TII en las pantallas de centelleo en un ambiente del vacío extremadamente alto. Los scintillators de CsI los 200~600µm en gamas del grueso con la alta uniformidad del funcionamiento del grueso y del brillo: Alta resolución espacial Ultra- de la proyección de imagen; Respuesta rápida para una proyección de imagen más aguda; Áreas principales de la imagen del borde-a-borde de la clase; Óptico absorba las capas o las capas del reflector; Dosis paciente baja de la radiografía. Substratos aplicados: Vidrio de TFT, placa de la fibra óptica, placa del Amorfo-carbono, placa de aluminio Uso: para el control de seguridad e inspección, educación de la física de alta energía, detección nuclear del radiaton y proyecciones de imagen médicas: examen del pecho, mamography, oral inter y panorámico dentales.