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Máquina de deposición PVD RTSP1200por pulverización catódica con magnetrónde película finapara la electrónica
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Características
- Método
- PVD
- Tecnología
- por pulverización catódica con magnetrón
- Tipo de deposición
- de película fina
- Aplicaciones
- para la electrónica
Descripción
La plata de revestimiento directo PVD en filtros dieléctricos de cerámica es una tecnología de recubrimiento avanzada aplicada con estaciones base 5G y otros semiconductores para industrias electrónicas.Una aplicación típica es el sustrato radiante cerámico. Deposición de película conductora de plata/cobre sobre óxido de aluminio (Al2O3), sustratos de AlN mediante tecnología de pulverización al vacío PVD,tiene sobre todo una gran ventaja en comparación con los métodos de fabricación tradicionales: DBC LTCC HTCC, que tiene costes de producción mucho más bajos. Royal Technology’s team collaborated with our customer to develop the PVD Silver Plating process successfully applying with sputtering technology which can replace conventional liquid silver brushing process.
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