Máquina de barnizar de film

PECVD piloto de revestimiento Aplicación El revestimiento piloto del PECVD está destinado a producir pilas de p-i-n de silicio amorfo hidrogenado en láminas metálicas. El catalizador se utiliza como herramienta de experimentación para la optimización de la deposición química de vapor mejorada por plasma de revestimientos funcionales y la producción de materiales de prueba. Ingeniería y Tecnología El recubrimiento piloto de la PECVD es una planta de tipo rollo a rollo diseñada para el recubrimiento al vacío de una sola cara de láminas metálicas de hasta 350 mm de ancho. El revestimiento se deposita por una descarga de radiofrecuencia. La zona de deposición consiste en un electrodo de RF dentro de un volumen hermético al gas. En las zonas de deposición se proporcionan condiciones libres de contaminación. El sustrato se precalienta antes de la deposición del revestimiento, se calienta durante el proceso de deposición y se enfría después del revestimiento. Los gradientes de temperatura en la lámina no exceden los 4 oC/cm. La temperatura de los dispositivos eléctricos, la placa curvada y el sustrato se controla con termopares y sensores IR. El sustrato es soportado mecánicamente por una placa curva calentada. La placa curvada consiste en varios segmentos con un radio de curvatura de 7,5 metros. El revestimiento está equipado con un sistema de bobinado simétrico reversible que proporciona una tensión optimizada y un manejo de la lámina sin rasguños ni arrugas. El sistema de bombeo consiste en bombas de refuerzo mecánico y bombas de desbaste en seco. La presión en cada zona de deposición puede variarse independientemente con válvulas de estrangulamiento colocadas en las líneas de la bomba. El sistema de control supervisa y controla todos los parámetros de proceso especificados. Hoja de datos Sustrato: láminas de metal Ancho del sustrato: 350 mm Espesor del sustrato: 50 ... 100 µm Recubrimiento: a-SiH Diámetro máximo del rollo: 400 ... 550 mm Zonas de deposición: 8 descargas capacitivas de RF