Software de diseño Calibre® MPCpro

de modelizaciónde mando de procesode calibración

La familia Calibre Mask Process Correction de productos basados en reglas y modelos se utiliza en la fabricación avanzada de fotomáscaras para corregir los errores sistemáticos de la litografía de la máscara y las fuentes de error del proceso, con el fin de garantizar que la firma de la dimensión crítica de la máscara esté dentro de las especificaciones. Descubra cómo Calibre nmMPC sigue marcando el camino, estableciendo un nuevo punto de referencia en precisión y fiabilidad. Este enfoque sinérgico del modelado de máscaras establece un nuevo estándar en la industria de las máscaras, tanto para los modelos de máscaras como para la precisión MPC. Validación para litografía de máscaras multihaz La corrección del proceso de máscara (Mask Process Correction, MPC) es un paso necesario en la preparación de datos de máscara (mask data preparation, MDP) para la fabricación de máscaras de haz electrónico en nodos tecnológicos avanzados de 14 nm y superiores. La MPC suele utilizar un modelo de dispersión de electrones para representar la exposición al haz de electrones y un modelo de proceso para representar los efectos del proceso de revelado y grabado. Los modelos se utilizan para simular de forma iterativa la posición de los bordes del diseño y mover los segmentos de los bordes para maximizar la precisión de la posición de los bordes de la máscara terminada. La asignación selectiva de dosis puede utilizarse junto con el movimiento de bordes para maximizar simultáneamente la ventana de proceso y la precisión de la posición de los bordes. La metodología MPC para la calibración del modelo y la corrección del trazado se ha desarrollado y optimizado para los escritores de máscaras de haz en forma de vector (VSB) que representan la tecnología litográfica de máscaras dominante en uso hoy en día para la fabricación de máscaras avanzadas. Recientemente se han introducido los escritores de máscaras multihaz (MBMW), que se están empezando a utilizar en la producción de fotomáscaras de gran volumen.