Sistema de nanoposicionamiento 3 ejes NPP-1

láserópticopara la industria

Sistema de posicionamiento y medición interferométrica láser planar para AFM - Sistema de medición y posicionamiento 2,5 D de máxima precisión - rango de medición y posicionamiento: superficie Ø 100 mm - resolución de medición lateral ≤ 0,02 nm - control: 3 interferómetros diferenciales acoplados por fibra óptica - Repetibilidad metrológica mediante el uso de láseres HeNe a 633 nm como fuente de luz para los interferómetros. - Microscopios de fuerza atómica como sistema de medición de sondeo, otros bajo pedido - La arquitectura abierta del dispositivo permite la aplicación de sensores específicos del cliente - El NPP-1 se controla mediante software para PC. Se dispone de una API de usuario. La plataforma de nanometría y posicionamiento NPP-1 permite el posicionamiento en un rango de unos 100 mm. La alta resolución de los interferómetros láser utilizados para el control, la arquitectura rígida del anodrnung de posicionamiento, los ejes neumáticos del sistema de posicionamiento y un sistema de control optimizado permiten que las desviaciones de posición y la fidelidad de trayectoria de los movimientos sean < 2 nm RMS. El objeto de medición se coloca directamente sobre un espejo móvil. La posición y la rotación del espejo se detectan interferométricamente. En este sistema se utilizan interferómetros ultraestables de la serie SP-DI/F. La luz de un láser estabilizado se transmite a través de fibras ópticas desde la unidad electrónica hasta los cabezales del interferómetro. El resultado es un diseño compacto y estable a la temperatura del NPP-1. Con una carga útil de hasta 5 kg, incluso los objetos más grandes y pesados pueden posicionarse con gran precisión utilizando la plataforma. El principio del sistema de nanoposicionamiento NPP-1 está diseñado para ser escalable, por lo que el sistema puede personalizarse a petición del cliente.