Sistema de control de la temperatura del baño químico de amplio rango
Unidad de control de temperatura a bordo; funciona con la fuente de alimentación conmutada o con el controlador de fuente de alimentación/temperatura para reemplazar un enfriador remoto.
Control de temperatura química de bajo flujo y de una sola pasada
Enfriamiento directo del fluido de proceso en bancos húmedos
Para los baños químicos de semiconductores de 2-40 litros
Rango de operación: - 10°C a 90°C
Temperatura ambiente: - 10°C a 40°C sin condensación
Estabilidad / Repetibilidad: - ± 0,05°C (con configuración típica)
Capacidad de refrigeración: - 550 vatios a 25°C con agua de la instalación a 20°C
Capacidad de calentamiento: - 1500 vatios a 25°C con agua de la instalación a 20°C
Fluido de proceso: - Hasta un 50% de solución de HF, disolventes orgánicos, otros fluidos compatibles con PFA Teflón, baños galvánicos
Facility Water: -
2-4 gpm (8-15 lpm) @ 10-35°C filtrado, tratado
instalación de recirculación de agua de refrigeración con un pH: 6,5 a 8,2
Flujo de fluido de proceso: -
4-10 gpm (15-38 lpm) con flujo paralelo (4:1 accesorios)
0.5-2 gpm (2-8 lpm) con flujo en serie (Opción de bajo flujo)
Presión máxima: -
Proceso: 90 psig
Instalación: 100 psig
Accesorios de teflón: - 3/4" o 1" Flaretek, o talón de tubo de teflón
Accesorios de agua de las instalaciones - 3/8" NPT hembra
Materiales mojados: -
Proceso: HDPFA Teflón
Facilidad: Aluminio anodizado impregnado de teflón
Tamaño (L x W x H): -
17.5" x 11.25" x 4.65" (44.4 cm x 28.6 cm x 11.8 cm) con aislamiento
40,6 cm x 24,8 cm x 8,0 cm (16" x 9,75" x 3,15") sin aislamiento
Peso: - 38 libras (17 kg)
Requerimientos de energía
(unidad separada): - Switchback 6600 ajustado a 0-144 VDC, 0-12.5 Amperios
Estándares - Semi S2-0200, conforme a F47, CE
Garantía: - 2 años
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