Espectrómetro ICP-OES ARCOS

de emisión ópticaultravioletaICP

La nueva interfaz lateral dual (DSOI) añade sensibilidad y elimina los problemas de contaminación/compatibilidad con la matriz Un instrumento en lugar de dos: Único instrumento de plasma MultiView del mercado: observación de plasma axial y radial (simple o doble) en un solo instrumento Sistema óptico ORCA: Captura simultánea del espectro en la gama de longitudes de onda de 130-770 nm con hasta 5 veces más sensibilidad que los sistemas basados en Echelle - ofrece el mejor rendimiento de su clase en la gama UV/VUV El espectrómetro de emisión óptica por plasma de acoplamiento inductivo (ICP-OES) SPECTRO ARCOS destaca en aplicaciones industriales y académicas para el análisis elemental más avanzado de metales, productos químicos, petroquímicos y otros materiales. El mecanismo MultiView sin periscopio permite al operador "convertir" literalmente un instrumento de vista radial en un dispositivo de vista axial, o viceversa, en 90 segundos o menos. MultiView incluye ahora la observación dual de plasma lateral. Las dos interfaces ópticas añaden sensibilidad y eliminan los problemas de contaminación y compatibilidad de la matriz. Los detectores de matriz de líneas, basados en la tecnología de semiconductores complementarios de óxido metálico (CMOS), eliminan el blooming, leen las señales bajas de los elementos traza incluso en las proximidades de líneas de matriz intensas, ofrecen un alto rango dinámico y eliminan la refrigeración en el chip. El diseño del SPECTRO ARCOS garantiza unos costes de funcionamiento excepcionalmente bajos a lo largo de una vida útil prolongada y fiable. Además, incorpora un chasis moderno y ergonómico con funciones de eficacia probada, como la tecnología de purificación de gas sellado UV-PLUS sin purga, la refrigeración por aire patentada, el sistema opcional de válvula inteligente y la cámara de vídeo portátil para monitorización remota.