Platina de posicionamiento rotativa DT105

piezoeléctrica2 ejesen lazo cerrado

Platina giratoria de alta resolución con apertura HV / UHV, DUV, sala blanca ISO 6, n x 360°, rep 0,0005°, 3 kg de carga, velocidad 270°/s - Sala blanca: variantes hasta clase ISO 6 (superior bajo pedido) - Vacío: todas las gamas HV / UHV hasta 10-11 mbar - Lubricación líquida hasta 10-8 mbar / configuración especial en seco hasta 10-11 mbar - Máx. Temperatura de horneado 100°C Configurable opcionalmente: - Disponible en versión magnética y poco magnética (sin imán como configuración especial) especial) - Selección de material y lubricación adaptados a la aplicación - Opcional con controlador FMC400/450 - Desarrollo personalizado con diseño 3D, prototipos, producción en serie Imágenes de alta resolución en un espacio de instalación limitado Esta platina giratoria compacta y plana alcanza resoluciones extremadamente altas en vacío durante procesos rápidos. La luz transmitida de 36 mm permite el posicionamiento, la medición y el análisis precisos de muestras pequeñas. Puede combinarse en exigentes sistemas multieje y se controla fácilmente mediante nuestros controladores FMC 400/450. Campos de aplicación Microscopía dinámica y de alta precisión, p. ej. AFM, microscopio electrónico, microscopio iónico, microscopio electrónico de barrido, microscopio de barrido en túnel, microscopía de laboratorio, sistemas de captura de imágenes, análisis de muestras, instrumentación de líneas de luz, sincrotrón, investigación de materiales, análisis de materiales