Platina de posicionamiento rotativa DT155

piezoeléctrica1 ejecompacta

Platina giratoria de alta resolución con gran apertura UHV, DUV / EUV, sala blanca ISO 6, n x 360°, rep 0,0003°, velocidad 300°/s, carga 5 kg - Sala blanca: variantes hasta clase ISO 6 (superior bajo pedido) - Vacío: todas las gamas HV / UHV hasta 10-11 mbar - Lubricación: líquida hasta 10-8 mbar / seca hasta 10-11 mbar - Máx. Temperatura de horneado 100°C Configurable opcionalmente: - Disponible en versión magnética y poco magnética (sin imán bajo pedido) - Selección de material y lubricación adaptados a la aplicación - Opcional con controlador FMC400/450 - Desarrollo personalizado con diseño 3D, prototipos, producción en serie Imágenes dinámicas y de alta precisión Esta platina giratoria compacta y plana alcanza resoluciones extremadamente altas en vacío durante procesos rápidos. Gracias a la gran luz transmitida de 79 mm / 3", incluso las muestras de gran tamaño pueden posicionarse, medirse y analizarse con precisión. Puede combinarse en sofisticados sistemas multieje y controlarse fácilmente mediante nuestros controladores FMC 400/450. Campos de aplicación Microscopía de alta precisión y dinámica, por ejemplo, microscopio electrónico, microscopio iónico, microscopio electrónico de barrido, microscopio de efecto túnel de barrido, instrumentación de línea de luz, sincrotrón, investigación de materiales, análisis de materiales, inspección de obleas, control de calidad de semiconductores, investigación de semiconductores