- Mecánica - Transmisión de potencia
- Actuador y Posicionamiento
- Platina de posicionamiento lineal
- Steinmeyer Holding GmbH
Platina de posicionamiento lineal MDT85-PMpiezoeléctrica1 ejede precisión
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Características
- Orientación
- lineal
- Tipo
- piezoeléctrica
- Número de ejes
- 1 eje
- Otras características
- de precisión, industrial, de manipulación de obleas
- Carrera
Máx.: 10 mm
(0,394 in)Mín.: 1 mm
(0,039 in)- Velocidad
Máx.: 5 mm/s
Mín.: 2,5 mm/s
- Repetibilidad
Máx.: 0,3 µm
Mín.: 0,2 µm
- Carga
Máx.: 1,5 kg
(3,31 lb)Mín.: 1,2 kg
(2,65 lb)
Descripción
MDT85-PM
Ejes y etapas lineales para vacío/sala limpia
- Sala limpia: variantes hasta clase ISO 6 (superior bajo pedido)
- Vacío: todas las gamas HV / UHV
- Haz: UV / DUV / EUV
- Lubricación: líquida hasta 10-8 / seca hasta 10-11 mbar
- Máx. Temperatura de cocción 140°C
Opciones:
- Con o sin apertura (Ø 25 mm)
- Apilable a un sistema de posicionamiento compacto de 3 ejes
- Magnetismo: magnético, bajo en imanes, sin imanes
- Lubricación EUV, lubricación UHV sin harina / sin PFAS
- Desarrollo personalizado con diseño 3D, prototipos, producción en serie
Campos de aplicación
Posicionamiento en dimensiones reducidas en la sala blanca EUV, p. ej., cámara, microscopio / sensor (AFM, WLI), mediciones de transiluminación, posicionamiento de microscopía, configuración de sistemas multieje XYZ que ahorran espacio, manipulador para la industria y la investigación, sistemas de posicionamiento compactos para salas blancas, alineación de semiconductores, inspección de haces
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