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Platina de posicionamiento lineal MDT85-PM
piezoeléctrica1 ejede precisión

platina de posicionamiento lineal
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Características

Orientación
lineal
Tipo
piezoeléctrica
Número de ejes
1 eje
Otras características
de precisión, industrial, de manipulación de obleas
Carrera

Mín.: 1 mm
(0,039 in)

Máx.: 10 mm
(0,394 in)

Velocidad

Mín.: 2,5 mm/s

Máx.: 5 mm/s

Repetibilidad

Mín.: 0,2 µm

Máx.: 0,3 µm

Carga

Mín.: 1,2 kg
(2,65 lb)

Máx.: 1,5 kg
(3,31 lb)

Descripción

MDT85-PM Ejes y etapas lineales para vacío/sala limpia - Sala limpia: variantes hasta clase ISO 6 (superior bajo pedido) - Vacío: todas las gamas HV / UHV - Haz: UV / DUV / EUV - Lubricación: líquida hasta 10-8 / seca hasta 10-11 mbar - Máx. Temperatura de cocción 140°C Opciones: - Con o sin apertura (Ø 25 mm) - Apilable a un sistema de posicionamiento compacto de 3 ejes - Magnetismo: magnético, bajo en imanes, sin imanes - Lubricación EUV, lubricación UHV sin harina / sin PFAS - Desarrollo personalizado con diseño 3D, prototipos, producción en serie Campos de aplicación Posicionamiento en dimensiones reducidas en la sala blanca EUV, p. ej., cámara, microscopio / sensor (AFM, WLI), mediciones de transiluminación, posicionamiento de microscopía, configuración de sistemas multieje XYZ que ahorran espacio, manipulador para la industria y la investigación, sistemas de posicionamiento compactos para salas blancas, alineación de semiconductores, inspección de haces

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