Platina de nanoposicionamiento XY KLT300 series

motorizada2 ejescompatible de vacío

- Vacío: todas las gamas HV / UHV / EUV hasta 10-11 mbar - Lubricación líquida hasta 10-8 / seca hasta 10-11 mbar - Máx. Temperatura de horneado 120°C - Apertura: 80 x 80 mm Configurable opcionalmente: - Con y sin sistema de medición - Opcionalmente con accionamiento de husillo o husillo de bolas lubricado para velocidades más altas - Puede combinarse con mesas giratorias (p. ej. DT155) para aplicaciones rotativas - Selección de materiales y lubricación por vacío adaptada a la aplicación - Adaptación individual a la situación de instalación en la cámara - Diseño para sala limpia ISO 14644-1 (hasta la clase 1 a petición) - Opcionalmente con controlador FMC400/450 Máxima estabilidad en el rango nanométrico, incluso en funcionamiento en seco El sistema de posicionamiento con apertura para luz transmitida se ha combinado a partir de dos etapas lineales LT300 para formar una etapa XY precisa y resistente para aplicaciones en alto vacío, ultra alto vacío y bajo radiación ultravioleta extrema. El sistema funciona completamente sin lubricantes. Su concepto de guías de rodillos cruzados y tornillo de avance permite una estabilidad enormemente alta en el rango nanométrico. Opcionalmente, este sistema puede diseñarse con accionamientos de husillo de bolas lubricados para obtener mayores velocidades. Campos de aplicación Posicionamiento de precisión de cargas pesadas, investigación en ultravacío y bajo radiación ultravioleta extrema, preparación de muestras, escaneo de muestras, manipulación de muestras, biochips, alineación de cámaras, investigación de materiales, análisis de materiales, línea de luz, acelerador, sincrotrón