Platina de posicionamiento compatible de vacío LT300 series

linealmotorizada1 eje

- Vacío: todas las gamas HV / UHV / EUV hasta 10E-11 mbar - Líquido de lubricación hasta 10E-8 / seco hasta 10E-11 mbar - Máx. Temperatura de horneado 120°C - Clase de sala limpia 4 ISO 14644-1 (hasta clase 1 a petición) - Vida útil muy larga, incluso con funcionamiento en seco Configurable opcionalmente: - Disponible con ruptura piezoeléctrica - Selección de materiales y lubricación por vacío adaptada a la aplicación - Adaptación individual a la situación de instalación en la cámara - Versión para sala blanca ISO 14644-1 (hasta clase 1 bajo pedido) - Opcional con controlador FMC400/450 Estabilidad en el rango nanométrico incluso con cargas elevadas de hasta 10 kg La platina lineal está diseñada para posicionar cargas con alta rigidez en condiciones extremas, como en alto vacío y ultra alto vacío. Equipado con un freno de pinza piezoeléctrico, este sistema de posicionamiento consigue una estabilidad en el rango nanométrico. Campos de aplicación Tecnología de semiconductores en ultra alto vacío y bajo radiación ultravioleta extrema, alineación de obleas, inspección de obleas, alineación de cámaras, alineación de sensores, inspección de contactos, alineación de espejos, sondeo, cámaras de vacío, investigación, instrumentación de líneas de luz, montaje e inspección de componentes electrónicos, aplicaciones de escaneo de alta precisión